Китай объявил о прорыве в разработке оборудования для производства микросхем

Китай заявил о значительном прорыве в разработке собственного оборудования для производства микросхем, что является важным шагом в преодолении санкций США, пишет Bloomberg. 

Министерство промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) сообщило, что государственным организациям рекомендуется использовать новую лазерную литографическую машину с разрешением 65 нанометров или лучше, что значительно превосходит предыдущее самое продвинутое отечественное оборудование с разрешением около 90 нанометров.

Оборудование для производства микросхем является ключевым узким местом в полупроводниковых амбициях Китая, которые США пытаются сдержать. Компании, такие как SMEE, стремятся разработать машины, способные конкурировать с поставщиками, такими как ASML Holding NV, продукция которых теперь запрещена для экспорта в Китай. Прорыв, о котором заявило MIIT, указывает на успехи китайских производителей в разработке более сложных машин, хотя они еще далеки от уровня ASML.

Кроме того, MIIT перечислило дополнительное оборудование для производства микросхем, которое должно быть введено в широкое использование, включая окислительные печи и оборудование для сухого травления.

Китайские производители полупроводников редко предоставляют подробную информацию из-за стратегической важности этой отрасли для национальной безопасности. Разработка нового оборудования предполагает, что Китай постепенно преодолевает проблемы, вызванные запретами на импорт технологий из США и Европы.